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實際案例
國產AI背后的“微觀守護者”:澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡
來源:本站 最后更新:2025-04-14 作者:佚名 瀏覽:229次

深圳市富田區最近正式任命了70名“AI公務員”。這標志著政府部門進入了“硅基同事”與人合作的新時代。這項改革基于DeepSeek 2.0模型,將240個政府場景分解為標準化模塊,并在專用混合架構中實現“跨”式智能組合。正式文件格式更正準確率95%以上,各部門分工效率80%以上。然而這場“靜悄悄的革命”背后,是百億級晶體管密度的AI芯片在支撐——幾納米工藝的芯片上,會導致系統崩潰,傳統光學顯微鏡已經成為視力受損地區致命的渦輪。

當人工智能公務員以僅為人力成本五十分之一的成本不間斷地持續工作時,其基礎底層硬件的可靠性直接關系到政策傳導是否會出現“梗阻”,以及民生訴求的分派是否會陷入“數據繭房”。例如,龍崗區借助人工智能實現了從23萬路監控視頻中“秒級尋人”。如果其依賴的核心視覺處理芯片的金屬互聯層存在孔洞,就可能導致關鍵幀丟失。福田區的“執法文書生成助手”的秒級響應,更是需要納米級精度的晶體管陣列來保障其穩定性。 

這些挑戰,將AI的競爭從算法層面推向了硬件微觀世界的戰場!

 

澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡具備自主創新的電子光學系統設計,可對AI芯片實現關鍵分析。

晶體管陣列的三維成像:借助背散射電子探測器(BSE),能夠清晰呈現鰭式場效應晶體管(FinFET)或環繞柵極晶體管(GAA)的立體結構,并定位諸如柵極氧化層厚度不均勻以及溝道界面缺陷等工藝問題。 

金屬互連層的缺陷檢測:利用二次電子成像(SE)技術,可以識別銅互連線路中的孔洞和電遷移痕跡,從而降低因電流密度過高而導致電路斷路的風險。 

材料成分的精確分析:通過結合能譜儀(EDS),能夠快速定位芯片中重金屬(如鐵、鎳顆粒)污染的位置,并追溯到硅晶圓制造過程中的工藝污染源。 

 

此外,ZEM系列臺式掃描電鏡的臺式化設計與環境強適應性,使其可直接部署于芯片封裝產線。

空間革命

其體積僅為傳統設備的20%,并且可以在百級潔凈車間之外的普通實驗室,甚至是在移動檢測車內運行。 

效率躍升

超快速抽真空,一鍵式自動化操作,能夠在一天內完成對大量芯片樣品的缺陷檢測。 

動態分析

例如,可以選擇配備一個原位加熱臺,以便實時觀察芯片在高負載運行條件下的熱膨脹變形情況,并預測其在長期使用中的可靠性。 

這種“檢測-反饋-工藝優化”的閉環模式,能夠大幅降低人工智能芯片供應商在產品出廠時的缺陷率。此外,澤攸科技“階梯式”的技術布局,不僅滿足了頂尖實驗室對*致性能的追求,還為人工智能芯片供應商提供了高性價比的選擇。由此,真正實現了檢測能力的“全鏈條覆蓋”。 

ZEM Ultra:搭載場發射電子槍,適用于高精度研究ZEM Pro:配備單晶燈絲,兼具長壽命與高亮度特性,完美平衡科研與工業檢測需求ZEM20/ZEM18/ZEM15C:采用經典鎢燈絲設計,為常規檢測提供高性價比解決方案

芯片各部位部分表征圖

從“實驗室巨獸”到“桌面英雄”,澤攸科技的ZEM系列臺式掃描電子顯微鏡正越來越深入地融入國產高端儀器的技術核心,并且以納米級精度守護著人工智能系統的“中國芯”。當微觀世界中不可見的缺陷被精確捕捉時,宏觀世界的數字化轉型就多了一份堅實的保障! 

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