使用徠卡 EM RES102，使您的樣品具備最高水平的靈活性，具有輕薄、清潔、拋光、切割的坡度和結構。獨特的離子束研磨系統結合了在一個單工作臺面單元上制備。
產品簡介：
各種樣品架可以進行多元化應用。除了高能量的離子銑工藝，徠卡EM RES102也可適于采用低離子能量處理非常柔軟的樣本。
適用于科研
離子源和樣品運動馬達驅動，程序化控制，因而可獲得重復性制樣結果
LN2樣品臺使得溫度敏感型樣品可在優化條件下進行離子研磨
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