GeminiSEM系列：高分辨，不挑樣

長久以來，蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM一直是高分辨力與寬樣品適用性的代名詞。無論您從事的研究方向是什么，GeminiSEM都可以滿足您的需求。創新的電子光學系統和新型樣品腔室設計可讓您擁有更佳的圖像質量、易用性和靈活性。

蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM兼具出色的成像和分析能力，不依靠浸沒式物鏡依然可以輕松實現1 kV以下的亞納米級分辨力。以下內容可以使您進一步了解Gemini電子光學系統的三大獨特設計，探索蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM的應用潛能。

不導電礦物蒙脫石斷裂表面的納米級特征

 

• 更靈活的成像工具 – 配備Gemini 1鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可以實現各種樣品的高分辨成像、分析和各種應用需求的拓展。
• 更強大的分析能力 - 配備Gemini 2鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460可應對更加復雜的分析工作。連續可調的大束流使您可以在成像和分析條件之間無縫切換。
• 更高端的表征體驗 - 蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560配有Gemini 3鏡筒及其新型電子光學引擎，讓它在各種工作條件下均可發揮該系列最出色的分辨率特性。

 

（一）、產品優勢

產品系列：了解三種型號的所有詳情，選擇符合您應用需求的一款。

 

1、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360
蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360，它是中心實驗室的得力助手，在科研和工業領域中具有高通用性。

（1） 靈活的樣品適用性

• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 360是中心實驗室的理想選擇，在科研和工業中具有非常高的通用性。
• 產品搭載Gemini 1鏡筒，在低電壓下依然具有高分辨成像能力，讓您輕松獲取樣品極表面高分辨信息。
• 通過鏡筒內二次電子和背散射電子同時成像，即使對于電子束敏感樣品也可以獲取高分辨的表面形貌和成分襯度。
• 在低真空下（NanoVP）拍攝不導電樣品時，依然可以通過鏡筒內Inlens探頭獲得優異襯度：無荷電高分辨。

兩個平行設計的鏡筒內探測器為樣品表征提供更全面的信息

（2）出色的用戶體驗

• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可提供出色的用戶體驗：該產品具有廣闊的視野范圍和大體積腔室，可以輕松檢測大尺寸樣品。
• 利用蔡司ZEN Connect軟件可在多種顯微鏡（例如光鏡、電鏡、X射線顯微鏡）之間進行無縫導航。
• 使用蔡司特有的自動對焦和智能探測器等自動功能輕松采集清晰、銳利的圖像。
• 具有對稱的EDS端口和共面的EDS / EBSD幾何設計，可高效執行成像和分析工作流程。
• 可有效延長系統正常運行時間，并讓您從容地進行計劃內維護。

多功能的樣品腔室滿足您不同應用需求的個性化配置。

（3）優異的功能擴展性

• 可升級的系統可有效減少重復投資。因此，我們將場發射掃描電鏡GeminiSEM 360融入蔡司ZEN core軟件生態系統中。
• ZEN軟件生態系統包括：ZEN Connect可關聯多儀器、多尺度數據；ZEN Intellesis是基于AI的自動分析工具； ZEN數據存儲功能可以讓您在一個數據中心節點上管理不同儀器的實驗數據。
• 可訪問作為APEER社區成員的其他用戶創建的工作流和腳本，幫助您解決難題。
• .明確的升級路徑幫助您的設備更好地升級最新的功能。

 

ZEN Connect將多種表征手段的數據進行整合，獲取樣品全面信息。

2、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460

蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460，具有更強大的分析能力，可進行高效分析和自動化的工作流程。

（1） 利用高分辨率和大束流

• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 460專為有挑戰性的分析任務而設計，可進行高效分析和自動的工作流程。
• Gemini 2鏡筒可快速執行高分辨成像和大束流分析：從小束流-低電壓無縫切換到大束流-高電壓。
• 并行使用多個探測器，提供樣品的全方位數據。
• 多接口腔室設計可兼容更多探測器，以進行高效分析。
• 使用新的VP模式在大束流下采集EBSD譜圖可達4000點/秒的標定率。
• 對于化學成分和晶體取向的分析，具有兩個對稱的EDS端口和共面的EDS/EBSD幾何學設計，可實現更快速度且無陰影的面分析結果。

 

幫助您快速分析的同時兼顧大束流和高分辨。

（2） 定制化的自動化工作流程

• 強大的分析功能與自動化流程相結合，讓您的分析工作更進一步。并且蔡司還可以通過Python腳本來定制您自己的自動化實驗。
• 修改實驗過程并根據您的要求定制結果輸出。
• STEM三維成像功能：將自動傾斜和旋轉與蔡司特有的特征點跟蹤相結合。將所有自動對齊的圖像發送到專有的3D重構軟件后，生成具有納米級分辨率的3D形貌。
• 當您需要測試材料的加工特性時，蔡司將為您提供自動化的原位加熱和拉伸實驗平臺：它可以讓您自動觀察在加熱和拉伸條件下的材料，同時動態繪制應力-應變曲線。

多功能的樣品腔室滿足您不同應用需求的個性化配置。

（3） 為您帶來更多可能性

• 基于Gemini 2鏡筒設計，即使在低電壓時，也可以通過調高束流密度來提高分析能力。
• 能夠使系統與各種配件相兼容。多功能型腔室不僅可以配置分析附件，還可以配置原位臺、冷凍傳輸系統和納米探針。
• .因此，您可以隨時對儀器進行配置更改和升級。
• 所有GeminiSEM均已融入蔡司ZEN core生態系統，您可以利用ZEN Connect、ZEN Intellesis和ZEN分析模塊，以獲取報告和GxP工作流程。

 

讓您的場發射掃描電鏡GeminiSEM 460成為原位實驗室。

3、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560

蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560：更高端的表征體驗，讓您輕松對困難樣品進行1 kV以下的高分辨、無畸變成像。

（1） 表面成像的新標準

• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 560全面提升你的電鏡體驗，即使在1kV以下也可以很輕松地對電子束敏感的樣品進行無畸變高分辨的成像。
• Gemini 3鏡筒搭載Nano-twin物鏡和新型電子光學引擎Smart Autopilot，可在1 kV以下對樣品進行1 nm以下分辨率的無漏磁成像-無需樣品臺偏壓或單色器。
• 通過新的可變氣壓模式和檢測系統對不導電及氣壓敏感的樣品進行成像：將真空敏感樣本通過低真空樣品交換室進入電鏡腔室，可以維持樣品最本征的結構后快速成像。
• 利用帶雙EDS接口的新型大型腔室，輕松分析復雜樣品。通過優化的探測器幾何設計確保快速、無陰影的圖像。

在低電壓下表征不導電礦物顆粒的表面：GeminiSEM 560，800 V, Inlens SE。

（2） 融合專業知識

• 新的電子光學引擎Smart Autopilot可全面提升對高難度樣品的成像體驗。
• 新系統的大視野功能可讓您輕松進行樣品導航。
• Smart Autopilot可讓您節省時間，同時避免進行復雜的的光路對中：該引擎可自動調整光路，讓圖像從一倍放大至五十萬倍時始終保持光路對中聚焦良好的狀態。
• Smart Autopilot包含蔡司特有的自動對焦和自動光路對中功能，可在幾秒內為您提供清晰、銳利的圖像。
• Python腳本能夠在自動化工作流程（例如3D STEM斷層成像）中集成軟件功能。

CeO2納米顆粒的3D STEM成像。GeminiSEM 560，aSTEM，明場像，30 kV。

（3） 體驗出色的襯度

• 樣品拍攝中的最佳成像條件，意味著您結合了最佳的參數組合來獲得完美的圖像：所以拍圖訣竅就是找到它。
• Gemini鏡筒技術及其無漏磁成像技術和全新的Gemini 3鏡筒可使您找到這些最佳成像條件，并從樣品中發現新的信息。
• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 560可以輕松拍攝磁疇襯度，它在樣品上的磁場小于2 mT。
• 使用帶能量過濾器的Inlens背散射探測器進行能量分辨背散射電子成像，同時通過環形背散射探測器進行角分辨背散射電子成像。
• 通過ZEN Connect對所有數據進行整合，輕松生成報告。

最佳成像條件：釹鐵硼磁鐵的磁疇襯度

（二）、洞悉產品背后的科技----Gemini電子光學系統

1、 Gemini 1：經典傳承

場發射掃描電鏡可實現高分辨成像離不開其性能優異的電子光學鏡筒。Gemini可在任意樣品上展現出色的成像分辨力，尤其是在低加速電壓下仍可輕松實現高分辨成像。

Gemini鏡筒具有以下三個主要特點：

• Gemini物鏡的設計結合了靜電透鏡和磁透鏡，在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。即使對極具挑戰的樣品（例如磁性材料）也能進行高品質成像。
• Gemini beam booster技術具有鏡筒內的電子加減速功能，可確保獲得小束斑和高信噪比；
• Gemini 鏡筒內探測器的設計可實現信號的高效采集，實現二次電子（SE）和背散射電子（BSE）同時成像，有效縮短了成像時間。

為您的應用帶來以下便利：

• 經校準后的SEM具有長期的穩定性，您在使用時只需要簡易地設定各項系統參數，如束流和加速電壓等。
• 無漏磁的透鏡設計，可實現無畸變的高分辨成像。
• 鏡筒內二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率，給您呈現來自樣品極表面的真實形貌圖像；
• 鏡筒內背散射探測器設計理念使您在極低電壓下也可獲得真實的成分襯度圖像。

2、 Gemini 2：分析利器

要獲取樣品更加完整的信息，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優異的性能，同時能給用戶簡單易用的操作體驗。

Gemini 2鏡筒可滿足您的以下需求：

• 場發射掃描電鏡GeminiSEM 460配有雙聚光鏡的Gemini 2鏡筒
• 在確保獲得出色的小束斑的同時，束流連續可調
• 可在小束流的高分辨成像與大束流的分析模式之間進行無縫切換
• 調整拍攝參數后無需對電子束進行重新對中，節省您的時間和精力
• 操作靈活易用，大束流密度下的高分辨成像、小束流分析、大束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定
• 物鏡無漏磁設計可以讓您獲得無畸變的EBSD花樣，還可以在大視野范圍內進行高分辨成像
• 傾斜樣品時不影響電子光學性能。即使磁性樣品也能輕松成像
• 選擇適合樣品的消荷電模式：局部電荷中和，腔室內可變氣壓或NanoVP

3、 Gemini 3：引領前沿

低電壓，高分辨是場發射掃描電鏡（FE-SEM）進化的方向。

（1） 這對于以下樣品非常重要：

• 電子束敏感樣品
• 不導電材料
• 獲得真實的樣品極表面信息，而不會有來自樣品深層中的背景信號

Gemini 3光路設計針對低電壓和極低電壓下的分辨力以及襯度增強進行了優化，可確保在從1 kV到30 kV的所有工作條件下獲得優異分辨力。Gemini 3鏡筒擁有兩個可協同工作的先進組件：Nano-twin透鏡和新型電子光學引擎Smart Autopilot。其他技術特征包括高分辨力模式和可選的樣品臺減速模式。

（2） Nano-twin透鏡：

• 低電壓和超低電壓下的亞納米分辨力成像，具有出色的信號檢測效率
• 低電壓下的像差是傳統Gemini物鏡的三分之一——施加在樣品上的磁場也是傳統Gemini物鏡的三分之一，約為1 mT
• 優化的幾何設計以及靜電和磁場分布
• 低電壓成像條件下增強的鏡筒內探測器的信號

這些特點為1 kV以下的亞納米成像提供了可能，而無需將樣品浸入電磁場中。

（3） Smart Autopilot
Smart Autopilot與Nano-twin透鏡結合使用，可為您帶來以下優勢：

• 通過聚光鏡優化所有工作條件下的電子束會聚角，可在任意電壓下獲得優異分辨率
• 通過新的大視野概覽模式實現樣品導航與高分辨成像之間的無縫過渡
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